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南大光电(300346)3月14日在互动平台表示，ArF光刻胶有少量供货，尚未规模量产。光刻胶扩产计划需根据产品订单情况确定。ArF光刻胶是先进集成电路芯片制造的关键材料，在193nm光源下有较高的透明性和抗刻蚀性等，可以广泛应用于各种高端IC芯片的生产制造。
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据中铁装备3月14日消息，“中铁1141号”单护盾TBM日前在韩国龙仁半导体产业园区始发，这是中铁装备单护盾TBM首次应用于韩国。也是继韩国仁川地铁、新青州电缆项目后，中铁装备产品再次服务于韩国隧道建设。据悉，韩
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